千葉県千葉市のアローズエンジニアリング株式会社は半導体装置周辺機器の設計制作、改造、修理、販売、半導体製造装置付帯工事、瞬低保護装置の製造・販売など行っています

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アローズエンジニアリング株式会社
〒264-0025
千葉県千葉市若葉区都賀1-4-2
TEL.043-234-5511代表
FAX.043-233-7268

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1.半導体装置周辺機器の設計,
  制作、改造、修理、販売
2.半導体製造装置移設・付帯工事
3.RF GEN/RF MACHの修理・改善
4.搬送ロボットの修理・改善
5.PCBボードの修理・改善
6.中古装置・ユニットの販売
7.工業用薬品の販売
8.瞬時電圧低下保護装置の販売
9.各種検査装置・顕微鏡の販売
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360901
 

RPS PowerMonitor

   
RPS Power Monitor Application  
1. ParticleによるWafer保護
CVD ToolはChamber Cleanの為にRemote Plasma GeneratorにNF3 Gasを使用している。しかし,大体のRPSは実際の消尽PowerをMonitor上に表すことが。つまり,RPS性能低下による非正常的な出力Powerによって発生する不適切なChamber Clean後に工程が進行されParticleによるDamageを肉眼またはWafer Reject可否判別する前の段階では確認が不可能である。
RPM(RPS Power Monitor)はRPS性能低下によるProcessのDamageを防ぐ為にRPSのPower値をリアルタイムで管理することによって不安全なClean以後に進行される工程事故を事前に防ぐことができる
   
2. 工程時間改善
RPSはNF3 Gas量, 圧力 , 温度によって出力Power値をAuto Controlする。
しかし,大部分のRPSはPower値が表示されない為,各お客様ごとの最適なRecipe管理が不可能である。
RPMを使用してRPSのMax Powerと実際Power消費量が少ない場合に適正量のNF3 Flow量を増加させることでRPSのPower効率を高め,Chamber Clean時に必要なF Radicalの生成を増やしてClean Timeを改善し,全体的なProcess Timeを減らすことができる。
最近,大部分のFABではCleanjin Timeを短くする為にRPSを少ない容量から大きい容量に交換もしくはNF3 Flow量を増加させている。
RPMを装着する際には装着されているRPSのPower値を測定してRPS容量交換無く既存のRPSの最適なPower Levelを見つけ維持し,それと同時にNF3 Flow量を増加させCleaning Timeを短くすることができる。
   
 RPSの出力Powerと解離率
   
 RPM 5kw Power Monitoring 
   
 RPM 7kw Power Monitoring 
   
 Upgrade後,Overhaulアラーム発生後,Plasma on Fail原因 
   
 Systems Sequence 
   
 Mechanical Configuration 
   
 Model Configuration 
   
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