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洗浄・再コーテイング

洗  浄

アルマイト

GXコートの特徴 (1)

    Anodic film 形成時に成長する多孔質層の変化               Transmission electron
 ※ Anodic film 表面分析 (TEM scale bar 100nm)               microscopy
1. 上記の写真はanodic filmの表面.
2. 表面の気功密度は Gx-coatingが最も高い.
3. 表面 Cell sizeは各々約20, 30, 50nm
4. 高い表面気功密度は、外部のgasとplasma露出時、
  他のコーティング方法により耐食性(インピーダンス)がいい。

GXコートの特徴 (2)

   Anodic film 形成時に成長する多孔質層の変化                Scanning electron
※ Anodic film 断面分析 (SEM X50,000)                        microscope
1.上の写真は、anodicfilmの断面。
2.表面に対してGx-coaHngは、G-coaHng断面のような形状をしている。
つまりanodizing電解時の電流値の変更により、表面と断面のanodicfilm成長を強制的に変化させた。
3.anodicfilm成長の変化を介して皮膜に加わるdamageを減らしてcrackを最小限にし、当然

GXコートの特徴 (3)

   Anodic film 形成時に成長する多孔質層の変化
※ Anodic film 成長機構
1. Gx-coating 方法はanodic film 成長時電流密度を変化させ皮膜の上下の気功特性を変化させる.
2. 多孔質層の構造的変化によって外部からの化学的、物理的衝撃を吸収する効果がある.
3. 表面部は低電流硫酸の特性があり、母材は G-coating 皮膜の特性がある.

GXコートの特徴 (4)

◎ 低電流皮膜の特徴は、高い気功率により、耐食性に強く、ParIcleSourceの生成環境にも強い。
◎ G-coaIng皮膜の特徴は、相対的に大きいPore構造を持ち、
  既存の電解質の約1/3の硫酸濃度を持って機械的性質に優れ、Crackでかなり有利である。
◎ Gx-coaIngの上部(表面)は、低電流皮膜と似ており、下部(母材)は、G-coaIngと類似している。
◎ 下の写真は、AnodicFilms成長し、
  83℃での水封穴処理を進行中の製品のMicroscopeで表面を観察して、crackの有無を確認
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